【摘要】本發明涉及半導體器件及集成電路制造工藝中化合物半導體異質結雙極晶體管的發射極基極金屬圖形自對準的制作方法。采用包括等離子體輔助化學氣相沉積、光刻機、刻蝕機、金屬蒸發設備和浸泡剝離設備，其特點是先在化合物半導體外延片的表面淀積SiO2
【摘要】 本發明公開了一種閉式脂壓系統，包括脂壓泵和短脂壓缸，脂壓泵為單柱塞泵，短脂壓缸只有一個脂壓腔，潤滑脂由脂壓泵流向短脂壓缸和由短脂壓缸流回脂壓泵經由相同管道，其特征在于：工作介質潤滑脂始終被封閉在脂壓泵泵腔和短脂壓缸的脂壓腔以及它們的連接管組成的密閉容積內，泵腔的容積和泵柱塞的排脂量都足夠大，泵柱塞的一次行程能夠提供足夠量的潤滑脂，使受供的短脂壓缸完成工作行程，產生并保持足夠的出力。系統工作程序簡化，費時更少；脂壓泵去掉了貯脂筒，其橫向尺寸減小，結構更簡單、緊湊。特別是脂壓泵在全行程內都有增壓作用，既可采用單獨供脂方式，也可采用集中供脂方式，使其應用更廣泛，可用于要求短行程液壓缸有大出力的場合。 【專利類型】發明申請 【申請人】彭道琪 【申請人類型】個人 【申請人地址】100028北京市朝陽區左家莊東里2號樓1305室 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】朝陽區 【申請號】CN200610007563.9 【申請日】2006-02-16 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101021223A 【公開公告日】2007-08-22 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN101021223B 【授權公告日】2012-07-04 【授權公告年份】2012.0 【IPC分類號】F15B11/02; F15B11/00 【發明人】彭道琪 【主權項內容】1.一種閉式脂壓系統，包括脂壓泵和短脂壓缸，脂壓泵為單柱塞泵，短脂壓 缸只有一個脂壓腔，潤滑脂由脂壓泵流向短脂壓缸和由短脂壓缸流回脂壓泵經由 相同管道，其特征在于：工作介質潤滑脂始終被封閉在脂壓泵泵腔和短脂壓缸的 脂壓腔以及它們的連接管組成的密閉容積內，泵腔的容積和泵柱塞的排脂量都足 夠大，泵柱塞的一次行程能夠提供足夠量的潤滑脂，使受供的短脂壓缸完成工作 行程，產生并保持足夠的出力。 【當前權利人】彭道琪 【當前專利權人地址】北京市朝陽區武圣北路和諧雅園10號樓3單元502室 【引證次數】1.0 【被引證次數】2 【他引次數】1.0 【被自引次數】1.0 【被他引次數】1.0 【家族引證次數】4.0 【家族被引證次數】2
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