【摘要】左視圖與右視圖對稱，省略左視圖。【專利類型】外觀設計【申請人】周衛華【申請人類型】個人【申請人地址】100029北京市朝陽區安貞橋勝古家園5號樓5單元1304【申請人地區】中國【申請人城市】北京市【申請人區縣】朝陽區【申請號】CN2
【摘要】 本發明涉及一種可用于多種分析目的的大容量線性離子阱和一種易于實現高準確度高精密度加工與裝配的一體化電極加工方法。該線性離子阱包括離子捕獲室、RF射頻信號和DC直流信號，其中，RF電極可包括多個部分，由此可將離子捕獲室分成多個子區域，可實現多種質譜分析程序。該離子阱的RF電極可以采用先加工非金屬基體，然后表面覆上金屬膜，最后根據子電極的需要去除絕緣區域的金屬膜這樣的一體化加工方法。多用途大容量線性離子阱為離子阱質量分析器和質譜儀器的發展提供了一種適用性強、功能多樣、易于加工裝配、成本相對低廉的實施方案。 【專利類型】發明申請 【申請人】方向 【申請人類型】個人 【申請人地址】100013北京市朝陽區北三環東路18號國家標準物質研究中心 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】朝陽區 【申請號】CN200610064916.9 【申請日】2006-03-17 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101038852A 【公開公告日】2007-09-19 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN101038852B 【授權公告日】2011-03-30 【授權公告年份】2011.0 【IPC分類號】H01J49/02; H01J49/10; H01J49/42; H01J9/02; H01J49/34 【發明人】方向 【主權項內容】1.一種多用途大容量線性離子阱，包括：由至少四個平行于離子阱中心軸z軸的RF電 極和一對端電極所確定的離子捕獲室；RF射頻信號和DC直流信號； 其特征在于：所述RF電極組沿z方向至少包括兩個部分，每個部分至少有一個子RF電 極包含一條狹縫，狹縫用于樣品或離子沿徑向注入或出射。 【當前權利人】方向 【當前專利權人地址】北京市朝陽區北三環東路18號國家標準物質研究中心 【引證次數】3.0 【被引證次數】38 【他引次數】3.0 【被他引次數】38.0 【家族引證次數】6.0 【家族被引證次數】42
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