【摘要】本發(fā)明公開了一種提高人機接口設(shè)備兼容性的 方法，包括：人機接口設(shè)備傳送虛擬中斷端點信息至主機設(shè)備； 所述主機設(shè)備許可與所述人機接口設(shè)備進(jìn)行數(shù)據(jù)傳輸。所述虛 擬中斷端點信息包含一個或一個以上的虛擬中斷端點的信息。 人機接口設(shè)備增加與虛
【摘要】 本實用新型涉及一種植入治療人體血管或非血管腫瘤用的局部帶有放射源的覆膜支架，由鎳鈦合金絲編織支架、醫(yī)用高分子膜及在支架的表面對應(yīng)腫瘤位置處設(shè)置帶有放射性同位素的覆膜組成。本實用新型在保持原有擴張狹窄的功能基礎(chǔ)上，避免了全覆放射膜給正常組織帶來的損傷，提高了使用的安全性，而且制造工藝簡單，加工容易，成本低。 【專利類型】實用新型 【申請人】沈陽 【申請人類型】個人 【申請人地址】102218北京市昌平區(qū)天通苑北二區(qū)40樓七單元301室 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區(qū)縣】昌平區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200620158387.4 【申請日】2006-11-16 【申請年份】2006 【公開公告號】CN200966838Y 【公開公告日】2007-10-31 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN200966838Y 【授權(quán)公告日】2007-10-31 【授權(quán)公告年份】2007.0 【IPC分類號】A61M36/00; A61F2/82; A61F2/04; A61F2/06; A61L27/00; A61L31/00 【發(fā)明人】沈陽 【主權(quán)項內(nèi)容】1、一種局部帶有放射源的覆膜支架，包括有支架，其特征在于： 在支架的表面對應(yīng)腫瘤位置處設(shè)置帶有放射性同位素的覆膜。 【當(dāng)前權(quán)利人】六安市濟民醫(yī)藥科技有限公司
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