【摘要】高效高亮全反射發光二極管屬于半導體光電子技術領域。本實用新型依次包含圖形電極(517)，第一導電型歐姆接觸層(304)，第一導電型電流擴展層(305)，第一導電型下限制層(306)，非摻雜的有源區(307)，第二導電型上限制層(30
【摘要】 本實用新型涉及一種膜壓機。本實用新型壓印定 型同步裝置，包括預熱輥、版輥、與版輥配合工作的壓印輥。 其中預熱輥外表面的溫度低于薄膜料塑性變形溫度1～30℃， 壓印輥外表面的溫度高于薄膜料塑性變形溫度0～20℃，版輥 外表面的溫度低于壓印輥50～180℃。本實用新型的有益效果 是可以解決連續壓印生產中的微觀和宏觀變形問題，提高成品 率，并將設備產出的產品向更精細準確的方向延伸。另一方面 由于材料 與模版分離前已經固化，很少有材料脫落殘留在凹槽內。 【專利類型】實用新型 【申請人】吳明 【申請人類型】個人 【申請人地址】100073北京市豐臺區望園西里8樓5門102號 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】豐臺區 【申請號】CN200620022753.3 【申請日】2006-01-26 【申請年份】2006 【公開公告號】CN2878060Y 【公開公告日】2007-03-14 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN2878060Y 【授權公告日】2007-03-14 【授權公告年份】2007.0 【發明人】吳明 【主權項內容】1.一種壓印定型同步裝置，包括預熱輥(3)、版輥(5)、與版輥(5) 配合工作的壓印輥(4)，其特征在于所述預熱輥(3)與壓印輥(4)貼合在 一起，所述預熱輥(3)外表面的溫度低于薄膜料塑性變形溫度1～30℃， 所述壓印輥(4)外表面的溫度高于薄膜料塑性變形溫度0～20℃，所述版 輥(5)外表面的溫度低于壓印輥(4)50℃～180℃。 【當前權利人】吳明 【當前專利權人地址】北京市豐臺區望園西里8樓5門102號 【被引證次數】6 【被他引次數】6.0 【家族被引證次數】6
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