【摘要】本實用新型涉及一種基于超磁致伸縮原理的微結構彎扭疲勞試驗裝置，屬于微機電系統技術基礎研究領域。本裝置主要包括有基底(1)、超磁致復合層伸縮薄膜和“T”型試樣(2)，超磁致復合層伸縮薄膜分為三層，中間一層為基片(4)，在基片(4)的上
【摘要】 視圖中a、b、c、d部為透明。 【專利類型】外觀設計 【申請人】上海堅一華歌旅游紀念品設計有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】200010上海市福佑路338號503室 【申請人地區】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區縣】黃浦區 【申請號】CN200630034299.9 【申請日】2006-03-10 【申請年份】2006 【公開公告號】CN3646563D 【公開公告日】2007-05-16 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN3646563D 【授權公告日】2007-05-16 【授權公告年份】2007.0 【發明人】徐堅一 【主權項內容】無 【當前權利人】上海堅一華歌旅游紀念品設計有限公司 【當前專利權人地址】上海市福佑路338號503室 【專利權人類型】有限責任公司 【統一社會信用代碼】91310101758587343N
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