【摘要】一種單粒子束刻蝕薄膜的單納米孔制作方法，屬于納米技術領域。本發明將固體絕緣薄膜置于帶有粒子檢測裝置的一個可水平旋轉的載體上，用單粒子束刻蝕該薄膜，單粒子束入射角大于等于9.6°、小于等于90°，并且單粒子束在該薄膜底部、頂部、或二者
【專利類型】外觀設計 【申請人】上海泛太制帽有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】201100上海市閔行區黎安路1188號 【申請人地區】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區縣】閔行區 【申請號】CN200630036945.5 【申請日】2006-05-31 【申請年份】2006 【公開公告號】CN3638478D 【公開公告日】2007-05-02 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN3638478D 【授權公告日】2007-05-02 【授權公告年份】2007.0 【發明人】羅大為 【主權項內容】無 【當前權利人】上海泛太制帽有限公司 【當前專利權人地址】上海市閔行區黎安路1188號 【專利權人類型】外商投資企業 【統一社會信用代碼】91310000607419254B
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