【專利類型】外觀設計【申請人】上海丹豆工藝品有限公司【申請人類型】企業【申請人地址】201108上海市閔行區元江路4888號【申請人地區】中國【申請人城市】上海市【申請人區縣】閔行區【申請號】CN200630047470.X【申請日】200
【摘要】 本發明公開了一種45°入射寬光譜消偏振濾光 片的構建方法，包括：采用兩個中心波長不同的雙反射膜堆加 三匹配層的構思建立基本膜系，然后對基本膜系膜層厚度運用 膜系設計與分析軟件Tfcalc3.5中的變尺度優化方法進行優化， 即得最終鍍膜膜系的膜層厚度。本發明的濾光片構建方法具有 的優點是只需高低折射率兩種膜料；僅對部分膜層厚度進行優 化，且膜層層數較少，易于鍍制；入射角度對偏振變化不敏感； 該濾光片具有寬光譜、低偏振度及高消光比的特點；濾光片的 基底選材和膜料選材范圍寬。。詳見官網：www.macrodatas.cn 【專利類型】發明申請 【申請人】中國科學院上海技術物理研究所 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】200083上海市玉田路500號 【申請人地區】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區縣】虹口區 【申請號】CN200610118740.0 【申請日】2006-11-24 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1959447A 【公開公告日】2007-05-09 【公開公告年份】2007 【IPC分類號】G02B5/20; G02B27/00 【發明人】馬小鳳; 劉定權; 陳剛; 李大琪; 朱圳; 張鳳山; 嚴義勛 【主權項內容】1.一種45°入射寬光譜消偏振濾光片的構建方法，其特征在于包括如下步 驟： §A.建立基本膜系： 基底正面膜系為 基底/(g1Hg2Lg1H)2(HL)8(g1Hg2Lg1H)2(H’L’)11(g1Hg2Lg1H)2/空氣； 基底背面膜系為： ？？？？？？？？？？？？？基底/0.8H0.6L1.3H2L/空氣； 其中：入射介質為空氣，基底為熔凝石英或者BK7玻璃； g1，g2是膜層厚度系數，其取值范圍均在0.5～2.5之間，視參考波長而定； (HL)8和(H’L’)11為兩個中心波長不同的雙反射膜堆，(HL)8中心波長為λ1， (H’L’)11中心波長為λ2； 兩個(g1Hg2Lg1H)2為匹配層，兩個反射膜堆之間的(g1Hg2Lg1H)2為平滑層； H、L分別代表光學厚度為λ1/4高、低折射率膜層，H’、L’分別代表光學 厚度為λ2/4高、低折射率膜層。 §B.對上述的正面基本膜系膜層厚度進行優化： 運用膜系設計與分析軟件Tfcalc3.5中的變尺度優化方法，將濾光片截止 帶的反射率R＝100％及其透射帶的透射率T＝100％作為優化目標函數，對上述正面 膜系中各匹配層的膜層厚度以及反射膜堆中的低折射率膜層厚度進行變尺度優 化，即得最終鍍膜膜系的膜層厚度。 【當前權利人】中國科學院上海技術物理研究所 【當前專利權人地址】上海市玉田路500號 【統一社會信用代碼】12100000425005579K 【被引證次數】12 【被自引次數】3.0 【被他引次數】9.0 【家族被引證次數】12
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