【摘要】馬-克-數據本發明涉及一種電子束曝光中套刻工藝的實現 方法,屬于微電子領域。其特征在于將套刻標志放置于曝光圖 形的中央,而后利用電鏡放大倍數的縮放來實現套刻。傳統的 套刻技術是將對準標記和圖形結構的位置獨立開來,但是這需 要較為昂貴
【摘要】 省略其它視圖。 【專利類型】外觀設計 【申請人】孫曉仁 【申請人類型】個人 【申請人地址】030001山西省科技情報研究所 【申請人地區】中國 【申請人城市】太原市 【申請人區縣】迎澤區 【申請號】CN91300181.3 【申請日】1991-01-24 【申請年份】1991 【公開公告號】CN3010324S 【公開公告日】1991-08-07 【公開公告年份】1991 【授權公告號】CN3010324S 【授權公告日】1991-08-07 【授權公告年份】1991.0 【發明人】孫曉仁 【主權項內容】無 【當前權利人】孫曉仁 【當前專利權人地址】山西省科技情報研究所
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