【摘要】1.省略其它視圖。 2.B為透明材料制造。 A-A剖視圖【專利類型】外觀設計【申請人】河北省滄州市華特飲料有限公司【申請人類型】企業【申請人地址】61001河北省滄州市西環中路10號【申請人地區】中國【申請人城市】滄州市【申請人區縣
【摘要】 本發明是采用電磁控陰極電弧源的鍍滲設備，屬 于真空鍍膜、離子鍍膜、離子滲金屬領域。其技術特 征在于控制電磁線圈的排布方式，在放電過程中不斷 改變線圈電流的方向和大小。在靶面產生的軸向磁 場分量和徑向磁場分量在靶材徑向不斷變化，使場致 發射式陰極電弧在靶面上均勻放電。陰極弧斑在靶 面上由小圈到大圈周期變化，靶材燒蝕均勻，靶材利 用率高、鍍膜厚度均勻，滲金屬件溫度均勻，有效沉積 速率高。適于鍍滲細長工件、板材、厚涂層等。 【專利類型】發明申請 【申請人】北京聯合大學機械工程學院 【申請人類型】學校 【申請人地址】100020北京市朝陽區白家莊西里 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】朝陽區 【申請號】CN90100946.6 【申請日】1990-02-27 【申請年份】1990 【公開公告號】CN1054451A 【公開公告日】1991-09-11 【公開公告年份】1991 【授權公告號】CN1021062C 【授權公告日】1993-06-02 【授權公告年份】1993.0 【IPC分類號】C23C14/35; C23C14/30; C23C14/28 【發明人】王福貞; 袁哲; 唐希源; 周友蘇; 張樹林; 程永清 【主權項內容】1、一種采用電磁控場致發射型陰極電弧的真空蒸鍍，離子鍍、離子滲金屬設備。由真空室(Ⅰ)，抽氣系統(Ⅱ)，工件轉動機構(Ⅲ)，進氣系統(Ⅳ)，陰極電弧源(Ⅴ)，弧源電源(Ⅵ)，偏壓電源(Ⅶ)等主要部件組成。本發明的技術特征在于控制電磁線圈的排布方式，在放電過程中改變電磁線圈中電流大小和方向。使陰極電弧沿全靶面均勻放電、陰極電弧弧斑由小圈到大圈周期變化。 【當前權利人】北京聯合大學機械工程學院 【當前專利權人地址】北京市朝陽區白家莊西里 【被引證次數】18.0 【被他引次數】18.0 【家族被引證次數】19.0
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