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【摘要】 來源：百度馬 克 數據網 本發明涉及物理汽相沉積技術領域中的等離子體加速器法離子鍍膜裝置，本發明的裝置注重霍耳加速效應的使用，加速器中帶有圓柱狀永久磁鐵，永久磁鐵與屏蔽相匹配，因此產生的電離蒸汽質量高、加速合理、鍍膜效果好、可用干仿金裝飾工、模具硬化等領域。 【專利類型】發明授權 【申請人】北京工業學院 【申請人類型】學校 【申請人地址】北京市海淀區白石橋路7號 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】海淀區 【申請號】CN87104730.6 【申請日】1987-07-17 【申請年份】1987 【公開公告號】CN1013964B 【公開公告日】1991-09-18 【公開公告年份】1991 【授權公告號】CN1013964B 【授權公告日】1991-09-18 【授權公告年份】1991.0 【IPC分類號】C23C14/32 【發明人】王殿儒; 田大準 【主權項內容】1、一種等離子體加速器法離子鍍膜裝置，其特征在于：該裝 置使用帶有圓柱狀永久磁鐵[3]的霍耳型等離子體加速器[11]作 為蒸發離化源，加速器[11]的陰極底座[4]中放入永久磁鐵[3]， 永久磁鐵[3]可在±2cm范圍內前后微調，圓柱狀永久磁鐵[3]與 筒屏蔽[8]和平面屏蔽[9]相匹配，筒屏蔽[8]與鍍膜材料[1]和陰 極底座[4]之間保持1.5～3mm距離，筒屏蔽[8]為軟鐵或導磁材料， 加速器[11]中的短路引弧觸發器[7]通過電阻[15]與陽極——殼 體[2]相接，在接通電流后的電磁鐵[6]的作用下完成短路引弧動 作，鍍膜材料[1]和短路引弧觸發器[7]之間并入一電壓繼電器[1 2]，加速器[11]中各部件之間通過絕緣體[5]進行密封和電絕緣， 鍍膜材料[1]表面的初始形狀為凹形，深度為3～5mm左右，棱寬 為1～2mm左右，殼體[2]內被真空機組[14]抽成真空，工件架[13] 作公轉和自轉運動并加負電壓。 【當前權利人】北京工業學院 【當前專利權人地址】北京市海淀區白石橋路7號 【引證次數】1.0 【被引證次數】1.0 【他引次數】1.0 【被他引次數】1.0 【家族引證次數】1.0 【家族被引證次數】2.0
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